Очистка полупроводников - ключевой процесс, обеспечивающий качество и надежность устройств. Незначительное загрязнение может повлиять на производительность. Методы очистки включают физические, химические, особо чистой водой и сухие методы.

Физическая очистка: ультразвуковая, распылительная и ионно-лучевая очистка.

Химическая очистка: кислотная очистка, щелочная очистка и очистка растворителем.

Очистка воды высокой степени чистоты: удаляет мельчайшие частицы, ионы и органические вещества.

Сухая чистка: газ или плазма удаляют загрязнения и позволяют избежать остатков жидких чистящих средств.

Очистка полупроводников используется в производстве интегральных схем, фотоэлектрических элементов и плоских дисплеев. По мере уменьшения размера устройства и увеличения его функциональности требования к очистке возрастают. Эффективная очистка повышает производительность, снижает затраты и продлевает срок службы.